书名：超大规模集成电路先进光刻理论与应用
出版社：科学出版社
作者：韦亚一
出版年份：2016
电子书格式： pdf
简介：《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》由韦亚一教授编著，科学出版社2016年出版。该书深入探讨了光刻技术在超大规模集成电路制造中的理论基础与实际应用，涵盖光刻材料、设备、工艺流程及最新技术发展。适用于半导体行业从业者、研究人员及相关专业的学生，是了解光刻技术的最佳参考书。
ISBN：9787030482686, 70304